Antialiasing

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Antialiasing
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Concepto:Se le llama antialiasing a los procesos que permiten minimizar el aliasing cuando se desea representar una señal de alta resolución en un sustrato de más baja resolución
Antialiasing

Se le llama antialiasing a los procesos que permiten minimizar el aliasing cuando se desea representar una señal de alta resolución en un sustrato de más baja resolución. En la mayoría de los casos, el antialiasing consiste en la eliminación de la información de frecuencia demasiado elevada para poder ser representada. Cuando tal información es dejada en la señal, se pueden producir artefactos impredecibles, tal y como puede verse en la figura 1. En el contexto del procesamiento digital de señales, un procedimiento de antialiasing podría ser, por ejemplo, el filtrado de las frecuencias que exceden el criterio de Nyquist, limitando así el ancho de banda en la señal. Sin embargo, el término antialiasing aparece con mayor frecuencia en el contexto de los gráficos por computadora.

Métodos de Antialiasing

Sobremuestreo o posfiltración

Los objetos se muestrean con una resolución más alta y se despliegan con resolución menor. Se incrementa el índice de muestreo al considerar la pantalla como si estuviera cubierta con una cuadrícula más delgada que la real. Se calculan las intensidades en las posiciones de la cuadrícula de subpixel y entonces se combinan los resultados para obtener las intensidades del píxel.

Máscaras de peso de píxeles

Consiste en dar más peso a los subpixels cercanos al centro del área de un píxel, puesto que se considera que estos subpixels son más importantes al determinar la intensidad general de un pixel.

Muestreo de área o prefiltración

Determinar la intensidad del píxel al calcular el translape de cada píxel con los objetos que se deben desplegar. Las áreas en que se sobreponen pixels se obtienen al determinar dónde se intersecan las fronteras del objeto con las fronteras de pixels individuales.

Fases de Píxel

Cambiar la posición de despliegue de las áreas de pixels. Se aplica mediante micro colocación del haz de electrones en relación con la geometría del objeto.

Vease También

Fuente